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氣體報警儀標準氣體的組分濃度
氣體報警儀用便攜式標準氣體采用小瓶包裝或一次性包裝，適用于外出和登高檢測報警儀，使用便捷，方便攜帶，是報警儀檢測人員的好幫手。 氣體報警儀標準氣體組分名稱及濃度范圍可根據要求配制，主要組分濃度參考如下： 紐瑞德特種氣體專業配制氣體報警類標準氣體、醫療醫用標準氣體、電力能源類標準氣體、石油化工類標準氣體、環保監測類標準氣體、儀器儀表類標準氣體，激光類標準氣體等。 我司配置的標準氣體都是企業標準，親們一定要弄清楚需要的氣體組分，氣體濃更多 +
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氦氣、氪氣、氖氣在激光顯示中的應用
人類對外部國際獲取信息的80%來自視覺，因而顯現器是現代人們獲取信息的重要途徑,顯現技能是信息范疇的重要開展方向。跟著人們對信息的獲取有更多更高的要求，對顯現器的性能就有了更多的期待，顯現技能及器材的研討也就越來越重要。 自19世紀末鼓起的是非顯現到1928年五顏六色電視問世以及1935年完成膠片拍照的五顏六色電影，顯現技能閱歷了從是非向五顏六色顯現技能的時代跨過，現階段正處于數字顯現開展時期。激光顯現技能的一個重要 思路是從色度學考慮，以紅、綠、藍，三基色（RGB）激光為光源的顯現技能，能夠最真實地再更多 +
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二氧化碳激光氣在耳科手術中的應用
二氧化碳激光氣應用于耳科手術至少已有40年的歷史，適用范圍廣泛。CO2激光在耳科手術適用的領域包括激光鼓膜造孔、激光輔助鼓膜成形等鼓膜手術，初次及修正人工鐙骨手術，以及慢性增生性中耳炎、鼓室硬化、膽脂瘤及外耳道增生性病變切除等手術。 CO2激光鼓膜造孔術是一種鼓膜非接觸式操作，避免患兒接受傳統置管手術所需的全身麻醉，不僅通氣時間可靠，而且操作簡單。術后復發率與骨膜置管相當，且并發癥低，大部分患者不再需要鼓膜置管術。因此，CO2激光鼓膜造孔術用于分泌性中耳炎的治療，是一種安全有效的手術方式。急性化膿更多 +
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二氧化碳激光的工業應用
二氧化碳激光器是目前連續輸出功率較高的一種激光，它發展較早，商業產品較為成熟，被廣泛應用到材料加工、醫療使用、軍事武器、環境量測等各個領域。在激光的發展和應用方面，CO2激光器的制作和應用較早也較多，早在1970年代末期，就有從國外直接進口CO2激光器，從事工業加工和醫療等應用。從80年代末期開始，CO2激光器被廣泛引進并應用在在材料加工領域。 近年來CO2激光加工設備雖然漸趨普及，但激光畢竟是一種新的工具，激光加工技術亦不同于傳統的加工方法，所以工業界在引進使用CO2激光器的過程中，曾經遇到各種更多 +
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氣體純度對激光混合氣的重要性
激光混合氣中組分氣的純度直接影響激光的性能，特別是氣體中氧、水、碳氫化合物等雜質的存在將導致激光輸出功率在鏡(面)和電極上的耗損，還會引起激光發射的不穩定。 激光混合氣組分的純度有著特殊要求，包裝混合氣的鋼瓶，充裝前也必須進行干燥處理，防止污染混合氣。如果將氦(He)氖(Ne)激光作為第一代氣體激光，二氧化碳激光是第二代氣體激光，在半導體制造領域將大量使用的氟化氪(KrF)激光，可稱為第三代激光。 激光混合氣中的發生氣體是激光發生器上用來產生激光的氣體，對氣體質量要求高，激光混合氣配制精度要求高更多 +
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半導體工業中的超高純特種氣體
超凈高純特種氣體為主要用于制備半導體器件、化合物半導體、激光器、光導纖維、太陽能電池等的高純度氣體，一般純度在99.999%（5N）以上。其中55％的市場份額是背景氣體（如氧、氮、氬、氫、CO2等）；其他45％為特種氣體。 超凈高純特種氣體包括純氣以及二元、多元混合氣。純氣己發展至100余種：混合氣己有17類、330多個品種，大約1000多種規格。超凈高純特種氣體配套性很強，根據不同用途分別有電子級、載氣級、發光二極管級、光導纖維級、VLSI級（超大規模集成電路級）等。最近為適應兆位集成電路的生產更多 +
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MO源—半導體產業鏈的源頭材料
MO源是什么？紐瑞德小編來告訴你！ MO源也就是高純金屬有機化合物，是現代化合物半導體產業的支撐源材料，是半導體照明(LED)產業鏈的源頭材料。從全球市場來看，MO源主要的應用領域是移動設備的背光源、液晶顯示器背光源、液晶大屏幕背光源、半導體激光器及航天高效太陽能電池等高端軍品技術領域、信號燈、汽車照明和半導體照明等光電子技術領域。 MO源種類繁多，在研究和生產中使用過的MO源超過70多種， MO源概念已超出金屬有機化合物的范圍，現在MO源的含義應是：凡在MOCVD外延技術中作為更多 +
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四氟化碳在微電子行業的應用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，鋁合金門窗制造、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控更多 +
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激光器使用的激光氣體和切割輔助氣
激光氣體中的發生氣體時激光發生器上用來產生激光的氣體，對氣體質量要求高，激光混合氣配制精度要求高，高純二氧化碳純度達99.999%，高純氮氣的純度99.999%，高純氦氣的純度要求99.999%，二氧化碳是產生激光的，氦氣是冷卻激光器的，氮氣是平衡氣體，氣體中的水分、氧份、有機氣體雜質對激光機的鏡片損傷特別大，能快速減少鏡片的壽命。所以激光機對這些氣體的質量要求特別高。 激光切割輔助氣體主要是干燥空氣、高純氮氣或工業氧氣，當切割不銹鋼板或是切割鋁板時一般使用高純氮氣更多 +
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氣相色譜法測定高純四氟化碳中三氟化氮雜質的方法
四氟化碳這種含氟有機化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質材料已成熟運用多年，也是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領域廣泛應用。同時在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗劑有一定的應用空間。四氟化碳的廣泛應用，其產品質量要求也相應的較為明確、規范。目前行業內較為成熟的分析方法主要檢測四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）更多 +
