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氣體檢測方法及氣體檢測標準
氣相色譜法適用于氫氣、氧氣、氮氣、氬氣、氦氣、一氧化碳、二氧化碳等無機氣體，甲烷、乙烷、丙烯及C3以上的絕大部分有機氣體的分析。氣相色譜儀主要由氣路系統、進樣系統、柱恒溫箱、色譜柱、檢測器和數據處理系統等組成。 用氣相色譜法分析標準氣體，要想獲得準確可靠的分析結果，首先必須建立分析方法，選擇合適的操作條件和操作技術。 2.化學發光法 化學發光法是利用某些化學反應所產生的發光現象對組分進行分析的方法，具有靈敏度高，選擇性好，使用簡單方法、快速等特點。適用硫化物、氮氧化物更多 +
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鹵素燈內充鹵素混合氣體的優勢
C級鹵素燈,在石英玻璃泡殼內填充鹵素燈混合氣體通常為氪氣75%85%、二溴甲烷6%15%、氮氣3%7%、氬氣3%7%,泡殼內的充氣壓力為2.53.5個大氣壓。通過鹵素燈混合氣體最佳的鹵素氣體比例與輔助氣體的配方,在相同的條件下(指電壓相同,燈絲規格,形狀,大小不變),燈泡的光通量將提高15%左右,燈泡的實際消耗功率將下降5%8%,燈泡的實際壽命將提高30%50%,燈泡屏蔽X射線的能力提高20%。通過以上數據可以看出在相同的條件下,填充改路素混合氣體的光效效能得到大幅度提高,不僅能節省能源,而且減少輻更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，如果遇到高熱后會造成容器內壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發生作用。 四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產中的去污劑等更多 +
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北京交通大學實驗室爆炸？甲烷、氨氣在作祟？
據北京消防微博消息：12月26日9時34分，北京交通大學市政環境工程系學生在學校東校區2號樓環境工程實驗室里，進行垃圾滲濾液污水處理科研實驗期間，現場發生爆炸，過火面積約60平米，并造成了3名參與實驗的學生死亡。 “垃圾滲濾液污水處理”實驗竟然如此危險？那么，我們如何才能避免類似悲劇再發生？ 垃圾滲濾液污水是高濃度廢水，包含各種難降解有機物、無機鹽和金屬離子等。一般處理工藝是通過藥劑進行酸、堿度調節，再通過厭氧、好氧反應，然后進入反滲透膜處更多 +
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四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環保電子氣體，電子級C4F6成為集成電路IC芯片等制造時必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡直為0，而且能完結納米級溝槽的加工，成為電子工業領域內一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發團隊提出自主開發新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
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80噸液氧甲烷發動機點火試車取得成功
9月27日，藍箭航天自主研發的80噸液氧甲烷發動機天鵲(TQ-12)短噴管推力室在其湖州自主建設的試車臺進行了20秒的短程點火試車并取得成功。 2018年3月，“天鵲”（TQ-12）80噸液氧甲烷發動機推力室設計工作完成，9月1日短噴管推力室順利交付。該推力室是“天鵲”（TQ-12）發動機的推力室首批產品中的先行者，與全狀態推力室相比，短噴管推力室不包含噴管延伸段，噴口面積比為4：1。 據了解，9月24日，“天鵲&rdq更多 +
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氣體為什么要進行脫硫處理？
質料氣中的硫以硫化氫（H2S）為主，此外還有二硫化碳（CS2）、硫氧化碳（COS）、硫醇（C2S5SH）等，這些含硫化合物對出產有何損害？ 紐瑞德來告訴你，硫化物的首要損害有以下幾點： （1）毒害催化劑，使催化劑中毒、失活 化工出產中常用的烴類轉化催化劑，高溫改換和低溫改換催化劑、甲烷化催化劑等各類構成催化劑中的活性組分都能與硫化氫反響生成金屬硫化物，然后使催化劑的活性下降、強度下降，嚴峻地影響催化劑的有用運用壽數。 硫化氫能使甲醇催化劑永久性更多 +
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三氯甲烷的廢氣回收處理
三氯甲烷作為基礎的化工原料和常用溶劑，在各種工藝過程中通過不同的手段進入大氣，進而污染大氣，萬浩機械采用活性炭纖維作為吸附劑，承攬三氯甲烷廢氣吸附回收裝置的設計、加工制造業務。 廢氣處理裝置組成：預處理裝置、吸附罐/吸附器、脫附冷凝回收系統、干燥降溫系統。 裝置工藝： 1、預處理—吸附：有機廢氣（如有必要需風機加壓或者引更多 +
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四氟化碳在微電子行業的應用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產，鋁合金門窗制造、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控更多 +
